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提供会社：エア・ウォーター・メカトロニクス（株）

CMPスラリー調合供給システム

CMPスラリー調合供給システム
  • CMPスラリー調合供給システム

エア・ウォーター・メカトロニクス（株）では、スラリー調合供給システムを取りそろえております。

Kinetics Equipment Solutions Group (KESG)社の基本技術を基に、開発・設計・製造を当社で行い、お客様のニーズに最適なシステムを提供します。高いスラリー調合精度とスラリー性状（濃度、粒子サイズ）の安定維持供給を実現します。集中供給システムは、365日24時間の安定供給を実現したシステムです。

製品詳細

用途

半導体生産のCMP設備及びガラス、シリコンなどの基板生産の研磨設備向けにスラリー薬液を調合して供給する設備
 

製品ラインアップ

・CMP装置集中システム
・CMP装置研究開発用ローカル供給システム
・過硫酸アンモニウム（APS）粉末集中供給システム
・界面活性剤加圧圧送集中供給システム
・過酸化水素水（H2O2）自動濃度測定・補充システム（ATRS）
・監視制御データ収集システム（SCADA）

CMPスラリー集中供給システム－MegaTM MFⅦ、SBDシリーズ－
エア・ウォーター・メカトロニクス（株）はKinetics Equipment Group(KESG)社とCMPスラリー集中供給システム
（Megaブランド製品）のライセンシング契約のもと、国内製造し、大手半導体工場に供給しております。

スラリー供給における課題事項
スラリー供給における課題

エア・ウォーター・メカトロニクス 供給装置の特徴
供給装置の特徴

特徴・メリット

1.スラリー均質・安定取扱技術
　スラリーに応じた原液攪拌技術（セリア、アルミナ）
　スラリー調合攪拌の最適化
　調合タンク・原液ドラムの乾燥・固化防止技術
　凝集を発生させない調合・送液システム
　高精度・高速調合技術

2.メンテナンスコストの削減
　メンテナンス・頻度工数の削減
　ローカル供給方式に較べ最大70％削減可能
　消耗分品の長寿命化
　調合バッチごとのDIW洗浄の自動化
　定期的な薬液洗浄の自動化も実現（オプション）

CMPスラリー集中供給装置
MegaTMMFⅦ

CMPスラリー集中供給装置CMPスラリー集中供給装置

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