半導体、液晶などのエレクトロニクス分野において使用される多種多様な特殊ケミカル品、供給システムや関連機器までを幅広く取り扱っています。

  • 特殊ケミカル・機器・装置

    半導体、液晶などのエレクトロニクス分野において使用される多種多様な特殊ケミカル品、供給システムや関連機器までを幅広く取り扱っています。

  • 特殊ケミカル供給装置
    • 特殊ケミカル供給装置 特殊ケミカル供給装置

      エア・ウォーター・メカトロニクス（株）では、特殊ケミカル供給装置を取りそろえております。
      特殊ケミカル製造メーカーとして豊富な知識を持つ米国ヴェルサムマテリアルズ社（VM，旧APCI）が製造する高純度ケミカル供給装置（ケムガード）を販売しています。当社では納入、立上げ、メンテナンスの他、お客様のご要望に応じた仕様変更等のトータルサービスを行っています。また、当社設計のオリジナル供給機器についても対応いたします。

      • 製品詳細
        エア・ウォーター・メカトロニクスが取り扱う高純度ケミカル供給機器の種類
        ・CG100：TEOS，TEB，TEPO他（汎用ケミカル）※標準モデル：VM製
        ・CG200：BTBAS，BDEAS ※特殊バルブシート材使用：VM製
        ・CG300：3DMAS他 ※禁水性、腐食性ケミカル対応：VM製
        ・CG400：TMA他 ※自然発火性ケミカル対応：VM製
        ・CG500：TEMAHf，Zr材料他 ※ソルベントパージ機能付：VM製
        ・MOsupply：有機金属他 ※シングルタンク対応：AWIオリジナル
        ・SS8：汎用ケミカル他 ※シングルタンク対応簡易版：AWIオリジナル
        ・PVRefill：POCl3他 ※テフロン仕様、シングルタンク対応：AWIオリジナル
        ・BCD：大容量（200L）TEOS供給：AWIオリジナル
      • 特殊ケミカル・機器・装置
        提供会社：エア・ウォーター・メカトロニクス（株）
  • シリコン半導体成膜素材
    • シリコン半導体成膜素材 シリコン半導体成膜素材

      エア・ウォーター・エレクトロニクス（株）では、シリコン半導体製品を取りそろえております。
      当社は20年以上かけて築いた世界中の特殊ケミカルメーカーとの関係により、様々なプロセス材料を取り扱っております。

      • 製品詳細
        シリコン半導体
        シリコン半導体の前工程（洗浄や成膜など）に用いられる特殊ケミカルの輸入・販売を行っています。20社以上の半導体メーカーへの供給実績があり、高品質な材料を安定供給しています。量産用の材料から次世代に向けた開発用の最先端材料まで、幅広く取りそろえています。

        ヴェルサムマテリアルズ（旧名エア・プロダクツ）製品
        半導体プロセスについて豊富な知識を活かして特殊材料を展開しているヴェルサムマテリアル社の特殊ケミカルは、半導体製造におけるさまざまなプロセスに不可欠な製品として、世界各地の半導体工場で使用されています。ドーピングに使用されるオキシ塩化リン（POCL3）などをはじめ、様々なプロセスで使用される最先端の特殊ケミカルを幅広く取りそろえています。

        取り扱う製品の種類
        ・TransLC®
        ・ビスタ－シャルブチルアミノシラン（BTBAS）
        ・テトラキスジメチルアミノチタン(TDMAT)
        ・トリメチルシラン
        ・テトラメチルシラン
        ・ターシャリーブチルイミドトリス(エチルメチルアミノ)タンタル　(TBTEMT)
        ・α-テルピネン(ATRP)
        ・ジエトキシメチルシラン（DEMS）
        製品・サービスのお問い合わせ
      • 特殊ケミカル・機器・装置
        提供会社：エア・ウォーター・エレクトロニクス（株）
  • 化合物半導体有機金属素材
    • 化合物半導体有機金属素材 化合物半導体有機金属素材

      エア・ウォーター・エレクトロニクス（株）では、化合物半導体製品を取りそろえております。
      LEDやパワーデバイス、高周波デバイス、認証用センサー、ヘッドマウントディスプレー（HMD）などの化合物半導体製品では新たなデバイスの開発・実用化が着々と進んでいます。これら化合物半導体製品は高純度有機金属材料（MO）とMOCVD装置を用い、ガリウム、アルミニウム、インジウムの窒化物などを積層することで作成されています。当社はつくば特殊化学品センターで厳重な品質管理を行い、独自のソリューションシステム、多様な容器ラインナップ、細かな供給体制で全国のお客様に製品を提供致します。

      • 製品詳細
        取り扱う製品の種類
        ・トリメチルガリウム（TMG）
        ・トリエチルガリウム（TEG）
        ・トリメチルアルミニウム（TMA）
        ・トリメチルインジウム（TMI）
        ・その他ドーパント材料
        ほか
      • 特殊ケミカル・機器・装置
        提供会社：エア・ウォーター・エレクトロニクス（株）
  • 半導体関連エンジニアリング
    • VSSGC:シリンダーキャビネット VSSGC:シリンダーキャビネット

      エア・ウォーター・エンジニアリング（株）では、シリンダーキャビネットを取りそろえております。
      特殊ガス供給とコンパクト設計を目的に開発。
      容器弁の開閉状態も自動確認方式を採用し、安全に安定供給するためのシステムは全自動化され、配管内体積を最小にすることで継手数削減や、バキュームジェネレーターによるパージアシストで高純度化を実現しています。

      • シリンダーキャビネットとは
        シリンダーキャビネットとは、ガスボンベを収納・保管し、特殊ガス、高圧ガスなどを安全・安定に供給する装置・設備です。
        半導体・液晶・太陽発電池の生産設備などで利用いただいております。
        エア・ウォーター・エンジニアリング（株）では、特殊ガスに合わせて部品選定し且つコンパクトに設計致しました。
        シリンダーキャビネットの導入やご検討、ご要望はエア・ウォーター・エンジニアリング（株）までお問合せください。

        製品詳細
        仕様
        VSS-GC① 材料ガス容器本数(1～6)
        VSS-GC② 供給系列(1～2)
        VSS-GC③ O:高圧気密容器･パージ容器なし
        H:高圧気密容器あり
        N:高圧気密･パージ容器あり
        VSS-GC④ A:配管非研磨仕様
        S:配管研磨仕様
        US:配管研磨+ブロック弁仕様
        VSS-GC⑤ 無記入:ステンレス仕様
        C:ハステロイ仕様
        主な用途
        半導体・液晶・太陽電池生産設備向け特殊ガス供給設備

        特徴
        VSS-GCシリーズの特徴
        VSS-GCシリーズの特徴
        さらに使いやすく見やすくなったタッチパネル

        タッチパネル
        VSS-GC 型式について
        VSS-GC　□ □ □ - □ □
        　　　 　(1)(2)(3) -(4)(5)

        (1) 材料ガス容器本数
        (2) 供給系列
        (3) O:高圧気密、パージ容器無
        　 H:高圧気密容器有
        　 N:高圧気密、パージ容器有
        (4) A:配管非研磨仕様
        　 S:配管研磨仕様
        　 US:配管研磨＋ブロック仕様
        (5) 無記入:ステンレス仕様
        　 C:ハステロイ仕様
      • 特殊ケミカル・機器・装置
        提供会社：エア・ウォーター・エンジニアリング（株）
  • CMPスラリー調合供給システム
    • CMPスラリー調合供給システム CMPスラリー調合供給システム

      エア・ウォーター・メカトロニクス（株）では、スラリー調合供給システムを取りそろえております。
      Kinetics Equipment Solutions Group (KESG)社の基本技術を基に、開発・設計・製造を当社で行い、お客様のニーズに最適なシステムを提供します。高いスラリー調合精度とスラリー性状（濃度、粒子サイズ）の安定維持供給を実現します。集中供給システムは、365日24時間の安定供給を実現したシステムです。

      • 製品詳細
        用途
        半導体生産のCMP設備及びガラス、シリコンなどの基板生産の研磨設備向けにスラリー薬液を調合して供給する設備

        製品ラインアップ
        ・CMP装置集中システム
        ・CMP装置研究開発用ローカル供給システム
        ・過硫酸アンモニウム（APS）粉末集中供給システム
        ・界面活性剤加圧圧送集中供給システム
        ・過酸化水素水（H2O2）自動濃度測定・補充システム（ATRS）
        ・監視制御データ収集システム（SCADA）

        CMPスラリー集中供給システム－MegaTM MFⅦ、SBDシリーズ－
        エア・ウォーター・メカトロニクス（株）はKinetics Equipment Group(KESG)社とCMPスラリー集中供給システム
        （Megaブランド製品）のライセンシング契約のもと、国内製造し、大手半導体工場に供給しております。

        スラリー供給における課題事項

        スラリー供給における課題
        エア・ウォーター・メカトロニクス 供給装置の特徴

        供給装置の特徴
        特徴・メリット
        1.スラリー均質・安定取扱技術
        　スラリーに応じた原液攪拌技術（セリア、アルミナ）
        　スラリー調合攪拌の最適化
        　調合タンク・原液ドラムの乾燥・固化防止技術
        　凝集を発生させない調合・送液システム
        　高精度・高速調合技術

        2.メンテナンスコストの削減
        　メンテナンス・頻度工数の削減
        　ローカル供給方式に較べ最大70％削減可能
        　消耗分品の長寿命化
        　調合バッチごとのDIW洗浄の自動化
        　定期的な薬液洗浄の自動化も実現（オプション）

        CMPスラリー集中供給装置
        MegaTMMFⅦ

        CMPスラリー集中供給装置
        CMPスラリー集中供給装置
      • 特殊ケミカル・機器・装置
        提供会社：エア・ウォーター・メカトロニクス（株）
  • 材料・プロセス開発
    • 材料・プロセス開発 材料・プロセス開発

      エア・ウォーター（株）では、新規プロセス開発関連サービスを提供しております。
      開発向け成膜装置（ALD、CVD装置など）や分析機器(XRR、SEMなど)を保有し、新規特殊ケミカルなどの開発、材料スクリーニングを実施しています。これら設備と長年培ってきた成膜技術で受託成膜やプロセス評価検討などの開発サポートも積極的に行っています。

      • 特殊ケミカル・機器・装置
        提供会社：エア・ウォーター（株）
      • 製品詳細
        開発向け成膜装置（ALD、CVD装置など）や分析機器(XRR、SEMなど)を保有し、新規特殊ケミカルなどの開発、材料スクリーニングを実施しています。これら設備と長年培ってきた成膜技術で受託成膜やプロセス評価検討などの開発サポートも積極的に行っています。

        成膜とは
        成膜とは、対象物に対して、特定の材料などを用いて、非常に薄い膜を形成することを指します。
        この非常に薄い膜を作る薄膜形成方法には、 「ALD（原子層堆積法）」や「CVD（化学気相成長法）」など様々あります。